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溫室氣體清單編制知多少——工業過程排放

2015-7-23 22:09 來源: 中創碳投 |作者: 胡曉明

半導體生產含氟氣體排放


10. 半導體生產含氟氣體排放
半導體生產過程采用多種含氟氣體。含氟氣體主要用于半導體制造業的晶圓制作過程中，具體用在等離子刻蝕和化學蒸汽沉積（CVD）反應腔體的電漿清潔和電漿蝕刻。這些生產環節會有部分含氟氣體排放?！妒〖墱厥覛怏w清單指南》要求計算和報告半導體制造的四氟化碳、三氟甲烷（CHF3或HFC-23）、六氟乙烷和六氟化硫的排放量。

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